Conçus pour les applications UV les plus exigeantes, nos miroirs haute énergie pour lasers excimères ont un traitement diélectrique dont les pertes sont faibles afin de minimiser la diffusion et de maximiser l’énergie reflétée. Des substrats en silice UV polis à une planéité de l/10 conservent la qualité du front d’onde et la stabilité.
Nous proposons des miroirs excimères pour les lasers ArF (1933 nm), KrF (24 nm), XeCl (308 nm) et XeF (351 à 353 nm) à 0° ou 45° d’angle d’incidence. La réflectivité à 193 nm est supérieure à 98 % pour les miroirs à incidence normale et supérieure à 95 % pour ceux à incidence 45°. La réflectivité à 248, 308 et 351-353 nm est supérieure à 99 % pour les deux types de miroirs. Les miroirs sont disponibles en diamètre 25,4 et 50,8 mm.
